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大阪大学超精密弹性发射抛光

大阪大学超精密弹性发射抛光

李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云弹性发射光学制造技术研究

2021年9月18日 2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20 世纪70年代提出的一种原子量级的 2021年1月22日弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。弹性发射光学制造技术研究进展2021年10月7日弹性发射加工技术 (Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光技术。基本原理如图1所示，光学元件和弹性变形恢复快的聚氨酯抛弹性发射光学制造技术研究进展加工2018年11月6日本研究では、文部科学省高エネルギー加速器研究機構との共同研究によって、測定対象面の法線を絶対精度5×108 rad（5nm/100mm）以上で計測し、その値を積分することによってnm 遠藤研究室（超精密科学研究センター）：大阪大学

大阪大学大学院工学研究科附属精密工学研究センター

2021年4月2日 8月16日、山村先生が8月16日付で大阪大学大学院工学研究科精密科学・応用物理学専攻精密科学講座先端機器システム領域の教授に就任されました。2020年5月8日超精密抛光工艺在现代制造业中有多重要，其应用的领域能够直接说明问题：集成电路制造、医疗器械、汽车配件、数码配件、精密模具、航空航天。顶级的抛光工艺只有美日等少数国家掌握抛光机的核超精密抛光工艺：现代电子工业的灵魂，我们现在还 2024年7月31日根幹を担うのは物理学。神の仕業とも言うべき自然現象の不思議さを根本から理解し、自由自在に応用する。物理学を理解することで人は目に見えない原子の世界をも操作できる。私たちはそれを証物理工学科目／精密工学コース大阪大学大学院工摘要：深紫外光刻,极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展,要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS 弹性发射光学制造技术研究进展百度学术

超精密加工之气囊抛光百度文库

超精密加工之气囊抛光超精密加工之气囊抛光超详细介绍首页文档视频音频文集文档公司财报弹性发射加工(Elastic emission machine ，EEM)。日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以原子级去除材料的可行性，建立了弹性发射加工理论，其如 2015年4月9日 ,流体抛光法它弹性发射加工由于加工范。2015年3月5日结合弹性发射加工技术和磨料水射流抛光技术的机理研究分析了弹性射流抛光的材料去。浮法抛光技术早是由日本大阪大学在70年代研制成功的,它是以锡。2019年1月3日第3节将超精密加工技术分为超精密大阪大学超精密弹性发射抛光2015年7月8日 21 弹性发射加工日本大阪大学的Mori[7]首先提出弹性发射加工ꎬ 该方法是利用电机带动聚氨酯球高速旋转ꎬ在聚氨酯球与工件之间形成的流体动压流来促使磨粒以近似水平角度冲击工件表层凸起的原子堆ꎬ造成工件表层原超光滑表面加工技术研究进展2021年12月30日本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光弹性发射光学制造技术研究进展

流体动压超光滑加工关键工艺参数优化

基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。2016年8月12日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨超精密研磨抛光方法非球面超精密抛光技术研究现状袁巨龙提出的气囊抛光)以及智能材料柔性抛光头(如 20 世纪 90 年代初美国罗彻斯特大学研究的磁流变抛光)。柔性接触抛光未消除边缘效应；且由于抛光头尺寸的限制很难加工凹形高陡度非球面。 1998 年荷兰 Delft 理工非球面超精密抛光技术研究现状袁巨龙百度文库第7章超精密研磨与抛光第二节精密研磨、抛光的主要工艺因素研磨方法 (单面、双面、旋转、往复) 弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉第7章超精密研磨与抛光百度文库

流体动压超光滑加工关键工艺参数优化 NUDT

基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。第7章超精密研磨与抛光精密和超精密加工第7 章超精密研磨与抛光课件首页文档视频音频文集文档公司财报弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进行加工。第7章超精密研磨与抛光百度文库2008年3月19日超精密加工技术在航空航天、光学及民用等领域的应用十分广泛（见表1）并向更高精度等方向发展（见表2）。 1．2超精密磨削超精密磨削技术是在一般精密磨削基础上发展起来的。超精密磨削不仅要提供镜面级的表面粗糙度，还要保证获得的几何形状和尺超精密加工技术概述机床商务网2019年6月17日此对单晶硅的超光滑抛光技术的研究至关重要。目前，国内外已经研究出多种超光滑表面加工技术，其中，弹性发射加工、磁流变抛光和化学机械抛光等得到了良好的应用。这些抛光方法中弹性发射加工[3]可以获得超光滑无损表面，但材料去除量内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究

大阪大学超精密弹性发射抛光

大阪大学超精密弹性发射抛光 T22:10:07+00:00 弹性发射光学制造技术研究进展旭为光电本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。 2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic 2024年5月8日日本大阪大学井川直哉教授等开始采用计算机仿真，逐步向揭开微量切削的奥秘迫近。超精密加工方法主要包括超精密切削（车、铣）、超精密磨削、超精密研磨（机械研磨、化学机械研磨、非接触式浮动研磨、弹性发射加工等）以及超精密特种半导体硅晶片超精密加工研究2015年12月2日掌握非球面超精密抛光过程中的材料去除机理及由此导致的亚表面损伤等特性对提高非球面抛光的加工精度与加工效率十分重要。 (如 1987 年日本大阪大学提出的弹性发射加工)或离子溅射(如1988 年美国新墨西哥大学完善的离子束加工) 非球面超精密抛光技术研究现状袁巨龙豆丁网2021年1月22日弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性弹性发射光学制造技术研究进展

线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗

2018年7月6日法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法和实验结果ꎬ可以得出结论:依赖于磨粒与工件表面间的准/非接触形态的具有流体动压效应的抛光借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究百度学术将超精密抛光的研具工作面和工件浸泡在含磨粒的研磨剂中进行，在充足的加工液中，借助水波效果，利用游离的微细磨粒进行研磨加工，并对磨粒作用部分所产生的热还有极好的冷却效果，对研磨时的微小冲击也有缓冲效果。超精密研磨抛光的主要新技术百度文库2023年7月7日 2、典型的非接触式抛光以弹性发射加工为例，弹性发射加工 (elastic emissionmachining，eem)是日本大阪大学森勇藏教授在二十世纪七十年代提出的一种超精密加工方法，弹性发射加工不同于使用研磨垫的传统抛光，它是一种非接触式的加工工艺，加一种非接触式抛光中恒力控制及间隙调整装置及方法

石英玻璃的等离子体抛光技术研究现状Research Status of

中文摘要: 具有耐腐蚀、热膨胀系数低等诸多优良物理化学特性的石英玻璃在高性能光学系统中被广泛使用。要求元件达到纳米级别的表面粗糙度，而且没有损伤层和残余应力，因此精加工之后的超精密抛光工序尤为重要。本文介绍了气囊、磁流变、弹性发射、离子束等几种石英玻璃的精密抛光方法 2016年3月31日对超精密磁流变复合抛光技术的国内外研究进展进行了评述，介绍了当前主要应用的几种超精密磁流变复合抛光技术的加工原理和发展现状重点介绍了磁流变射流复合抛光、超声波磁流变复合抛光、化学机超精密磁流变复合抛光技术研究进展2020年4月24日目前，美国日本等国际顶级的抛光工艺已经可以满足60英寸基片原材料的精密抛光要求（属超大尺寸），他们据此掌控着超精密抛光工艺的核心技术，牢牢把握了全球市场的主动权。而事实上，把握住这项技术，也就在很大程度上掌控了电子制造业的发展。通往超精密抛光工艺之巅，路阻且长天津大学材料科学与 2012年3月8日浙江工业大学硕士学位论文DJP．9BC超精密双面抛光机结构设计和实验研究作者姓名：指导教师：**李伟教授浙江工业大学机械工程学院2011年4月｜III｜fI｜lDJP9BC超精密双面抛光机结构设计和实验研究豆丁网

先进制造技术超精密研磨PPT百度文库

利用磁悬浮抛光方法对 Si3N4 陶瓷球进行加工，可获得了Ra4 nm、Rz 40 nm的表面精度。三、超精密研磨新技术 4、电解抛光电解抛光，是以被抛工件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产生有选择性的阳极溶解，从而达到工件表面光亮度增大的效果。超精密光学制造与检测团队负责人，主持完成国家重大科技专项、国家973子课题、国家张翅翔, 杨旭宁, 孟禹彤, 侯溪用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪一种光学元件侯溪中国科学院大学UCAS SEP 教育业务接入平台2024年7月2日由于超精密抛光涉及的参数众多，以极具代表性的CMP抛光为例，加工环境、抛光液进给速、抛光头转速、抛光压力、研磨盘（抛光盘）转速、抛光时长、晶片粘贴方式等都会对抛光效果产生影响，因此，除了需要研究不同加工工艺参数对抛光效果的影响，还超精密抛光技术简介—中国光学光电子行业网 COEMA超精密加工主要包括超精密切削 ( 车、 ) 、铣超精密磨削、超精密研磨 ( 机械研磨、械化学研磨、机研抛、非接触式浮动研磨、弹性发射加工等 ) 以及超精密特种加工 ( 电子束、离子束、等离子加工、激光束加工以及电加工等 ) 以及最新研发的纳米超精密加工技术研究现状及发展趋势百度文库

超精密磨粒加工新发展及应用参考网

2020年9月10日近年来也发展了许多先进的抛光技术，先进的自由磨粒超精密抛光方法有磁流变抛光、化学机械和电复合等抛光、磨粒流喷射表面光整加工抛光、复合磨粒的超精密抛光、等离子体辅助磨粒抛光、力流变抛光技术等。1 超精密磨粒加工装备对抛光前后的金刚石表面进行XPS分析，如图4所示。从未抛光和抛光的金刚石表面都检测到C1s（~2850 eV）和O1s（~5310 eV）的强峰（图4a）。一般来说，C1s区域决定了CMP过程中金刚石薄膜表面化学性质的变化。单晶金刚石的抛光与平坦化：现状与展望超精密研磨与抛光552 化学机械抛光微细磨粒＋软质抛光垫＋酸性（或碱性）液利用磨粒的机械作用和加工液的腐蚀作用的双重作用的加工方法553 非接触研磨技术非接触研磨技术是以弹性发射加工（EEM) 的理论为基础的。EEM方法是利用微细超精密研磨与抛光百度文库弹性射流抛光是一种新型的光学零件精密加工方法，它通过高速旋转的抛光工具控制磨料射流对工件表面的加工过程，使工件表面材料均匀去除，得到超光滑的表面，同时保证了光学玻璃较好的表面质量和较高的抛光效率。本论文的工作内容包括以下面向光学玻璃的精密加工技术研究

浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA

2007年9月24日通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。近年来，光学及微电子学极大地推动了光学加工技术的发展。大规模或超大规模集成电路对所用基片(通常为硅、锗等材料)的表面精度提出了很 2008年12月20日超精密加工主要包括超精密切削 (车、铣 ) 、超精密磨削、超精密研磨 (机械研磨、机械化学研磨、研抛、非接触式浮动研磨、弹性发射加工等 )以及超精密特种加工 (电子束、离子束、等离子加工、激光束加工以及电加工等 )以及最新研发的纳米技术。超精密加工技术研究现状及发展趋势百度文库2015年11月16日磨料射流表面抛光研究综述陈逢军1,2,唐宇1,苗想亮1,尹韶辉1 (1湖南大学机械与运载工程学院,长沙;2湖南大学(常州)装备机械研究院,常州) 摘摇要:作为精密超精密光学制造工艺过程中的一个重要环节,各种新型表面抛光方法与工艺始终吸引磨料射流表面抛光研究综述2013年6月14日流体特性的抛光以及弹性发射抛光、浴法抛光等，都存在经济性不高或加工效率方面存在不足[4]。郭钟宁教授[5]将超声波作为运动载体驱动磨料应用于流体抛光技术中，在玻璃的加工中获得了 Ra为 08 nm的超光滑表面。清华大学郝鹏飞[6]利用Mi⁃声悬浮抛光磨粒微流场研究

几种超精密研磨抛光方法的加工原理、特点、加

2014年11月29日二、几种超精密研磨抛光方法 21、基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量去除，达到高精度的加工表面。 211、弹性发射加工2015年5月6日文中研究了超精密自由曲面抛光过程中的表面生成，研究结果为优化超精密抛光自由曲面中的表面生成及表面质量提供了重要方法和手段。1 超精密抛光自由曲面超精密抛光是一种计算机控制抛光技术（CCP）, CCP 广泛用于高精度表面生成技术中，提供高品超精密抛光自由曲面光学的表面生成 Hong Kong 2012年11月7日 32 难加工材料的加工对于硬脆材料的精密加工，超精密研磨、抛光是一种有效的手段。运用特种加工技术如离子束抛光、弹性发射加工等，可明显提高加工表面质量。美国 Frankfurt 兵工厂采用氩离子束抛光火控系统用的高精度非球面镜，精度达到 002λ。精密超精密加工技术在航天领域的应用与展望pdf 豆丁网超精密加工之气囊抛光超精密加工之气囊抛光超详细介绍首页文档视频音频文集文档公司财报弹性发射加工(Elastic emission machine ，EEM)。日本大阪大学 TSUWA 等研究了在工件表面,以原子级去除材料的可行性，建立了弹性发射加工理论，其如超精密加工之气囊抛光百度文库

大阪大学超精密弹性发射抛光

2015年4月9日 ,流体抛光法它弹性发射加工由于加工范。2015年3月5日结合弹性发射加工技术和磨料水射流抛光技术的机理研究分析了弹性射流抛光的材料去。浮法抛光技术早是由日本大阪大学在70年代研制成功的,它是以锡。2019年1月3日第3节将超精密加工技术分为超精密2015年7月8日 21 弹性发射加工日本大阪大学的Mori[7]首先提出弹性发射加工ꎬ 该方法是利用电机带动聚氨酯球高速旋转ꎬ在聚氨酯球与工件之间形成的流体动压流来促使磨粒以近似水平角度冲击工件表层凸起的原子堆ꎬ造成工件表层原超光滑表面加工技术研究进展2021年12月30日本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光弹性发射光学制造技术研究进展基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。流体动压超光滑加工关键工艺参数优化

超精密研磨抛光方法

2016年8月12日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨非球面超精密抛光技术研究现状袁巨龙提出的气囊抛光)以及智能材料柔性抛光头(如 20 世纪 90 年代初美国罗彻斯特大学研究的磁流变抛光)。柔性接触抛光未消除边缘效应；且由于抛光头尺寸的限制很难加工凹形高陡度非球面。 1998 年荷兰 Delft 理工非球面超精密抛光技术研究现状袁巨龙百度文库第7章超精密研磨与抛光第二节精密研磨、抛光的主要工艺因素研磨方法 (单面、双面、旋转、往复) 弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉第7章超精密研磨与抛光百度文库基于弹性发射加工原理提出了流体动压超光滑加工方法。流体动压超光滑加工通过控制纳米抛光颗粒与光学元件表面的弹性域碰撞，利用界面化学吸附反应可以实现光学元件表面原子级水平材料去除，可以获得超低损伤、原子级光滑的超光滑表面[8－10]。流体动压超光滑加工关键工艺参数优化 NUDT

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